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生物膜材料高速研磨機，生物膜微?；咚俜鬯闄C，生物膜研磨粉碎均質(zhì)設(shè)備

生物膜材料高速研磨機，生物膜微粒化高速粉碎機，生物膜研磨粉碎均質(zhì)設(shè)備

生物膜材料高速研磨機，生物膜微?；咚俜鬯闄C，生物膜研磨粉碎均質(zhì)設(shè)備

更新時間:2025-07-07

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CMSD2000/05蒙脫石混懸液高速膠體磨

蒙脫石混懸液高速膠體磨，獸藥高速膠體磨，獸類止瀉藥高速膠體磨，在線式高速膠體磨

更新時間:2025-07-07

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cm2000在線式膠體磨特別適合于膠體溶液，超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，cm在摩擦狀態(tài)下工作，因此也被成為濕磨。在錐形定子和轉(zhuǎn)子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散效果。cm2000整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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CM2000跟腱蛋白管線式高速膠體磨

cm2000在線式膠體磨特別適合于膠體溶液，超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，cm在摩擦狀態(tài)下工作，因此也被成為濕磨。在錐形定子和轉(zhuǎn)子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散效果。cm2000整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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科研實驗室用高速勻漿研磨機

科研實驗室用高速勻漿研磨機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或成為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或成為定子）做相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力（可有泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，通過膠體磨定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎效果。

更新時間:2025-07-07

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CMD2000紅霉素眼膏劑膠體磨，軟膏膠體磨，凡士林軟膏膠體磨，金霉素紅霉素軟膏膠體磨，膠體磨或者改進型膠體磨

紅霉素眼膏劑膠體磨，軟膏膠體磨，凡士林軟膏膠體磨，金霉素紅霉素軟膏膠體磨，膠體磨或者改進型膠體磨cmd2000系列改進型膠體

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CM2000高速濕法粉碎機

cms2000高速膠體磨的工作原理：超高膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或成為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或成為定子）做相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力（可有泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，通過膠體磨定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎的效果。

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CMD2000碳管超高速納米研磨分散機

cmd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMD2000食用二氧化鈦研磨機

cmd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMD2000水性丙烯酸色漿高速納米研磨機

cmd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMSD2000二氧化鈦新型高速研磨分散機

cmsd改進型膠體磨分散機濕法粉碎機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMSD2000樹脂粉高速研磨分散機

cmsd改進型膠體磨分散機濕法粉碎機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CM2000魚鱗膠原蛋白高速研磨機

cm2000在線式魚鱗膠原蛋白高速研磨機。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，cm在摩擦狀態(tài)下工作，因此也被成為濕磨。在錐形定子和轉(zhuǎn)子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散效果。cm2000整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMSD2000石墨烯改性潤滑脂分散機

cmsd2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。第yi由具有精細度遞升的三鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要

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CM2000透明凍膠類物質(zhì)高速膠體磨

透明凍膠類物質(zhì)高速膠體磨使用壽命很長，故障率低，穩(wěn)定性強，正常使用的情況下可使用7年以上，無易損件。比普通膠體磨（高轉(zhuǎn)速2930轉(zhuǎn)）高出4-5倍轉(zhuǎn)速（14000轉(zhuǎn)），剪切分散效果更好；設(shè)備整機夾套，可根據(jù)需求加熱貨冷卻；工作腔體及罐體夾套中的介質(zhì)可根據(jù)需求通水/冷卻液/漿料中的液體介質(zhì)/導(dǎo)熱油等均可；定轉(zhuǎn)子間間隙僅為0.2-0.4mm（間隙可調(diào)，研磨細度可控），而普通膠體磨的定轉(zhuǎn)子間隙為1mm以上

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CMD2000實驗室高速濕磨機，高速濕磨機，濕磨機

實驗室高速濕磨機，高速濕磨機，ikn濕磨機20000轉(zhuǎn)超高速濕磨機基于轉(zhuǎn)子-定子原理。ikn濕磨機的輸入剪切能大，可實現(xiàn)10微米及以下粒度。更多詳情請致電上海依肯銷售工程師徐工 182-0189-1183，ikn設(shè)有用實驗室可以免費進行物料測試。

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CMSD2000中試型高速濕磨機,高速濕磨機，濕磨機

中試型高速濕磨機,高速濕磨機，濕磨機，更多詳情請致電上海依肯銷售工程師徐工 182-0189-1183，公司有樣機可以免費進行測試。

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CMSD2000高性能富鋰材料高速分散研磨機

cmsd改進型高速研磨分散機濕法粉碎機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMD2000在線式硅酸鋁纖維改進型高速膠體磨

cmd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMD2000硅酸鋁高速納米研磨機

cmd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMD2000油性醫(yī)藥混懸液高速研磨機

cmd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMSD2000膨脹石墨阻燃材料高剪切高速研磨分散機

cmsd改進型膠體磨研磨分散機濕法粉碎機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CM2000中藥超微研磨粉碎膠體磨

cm2000在線式中藥超微研磨粉碎膠體磨。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，cm在摩擦狀態(tài)下工作，因此也被成為濕磨。在錐形定子和轉(zhuǎn)子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散效果。cm2000整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMSD2000機械法石墨高速研磨分散機

cmsd改進型膠體磨分散機濕法粉碎機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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CMSD2000高效剝離石墨烯高速研磨分散機

cmsd改進型膠體磨分散機濕法粉碎機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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CMSD2000改性白炭黑納米研磨分散機

cmsd改進型膠體磨研磨分散機濕法粉碎機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMD2000相變材料硅凝膠高速均質(zhì)膠體磨

cmd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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CMSD2000IKN德國油墨研磨分散機

ikn德國油墨研磨分散機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMXDIKN超高速研磨剪切膠體磨

cmxd改進型膠體磨分散機濕法粉碎機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMD2000IKN超小粒徑膠束溶液早強劑高剪切研磨機

cmd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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CMD2000IKN超微細混懸液高轉(zhuǎn)速膠體磨

cmd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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CMSD2000高速研磨分散機

高速研磨分散機濕法粉碎機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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豬脾臟高速剪切在線式連續(xù)生產(chǎn)膠體磨

豬脾臟高速剪切在線式連續(xù)生產(chǎn)膠體磨，豬脾破碎提取膠體磨，動物臟器破碎膠體磨，免疫動物組織破碎膠體磨，免疫動物組織破碎膠體磨...更多詳情請致電 ikn 徐工 182-0189-1183，公司有樣機可以進行實驗測試。

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CMSD2000流體半流體納米膠體磨

cmsd改進型膠體磨分散機濕法粉碎機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMD2000IKN德國白炭黑改性濕法高速粉碎機

cmd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CM2000IKN氫氧化鋁阻燃劑超高速膠體磨

cm2000在線式膠體磨特別適合于膠體溶液，超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，cm在摩擦狀態(tài)下工作，因此也被成為濕磨。在錐形定子和轉(zhuǎn)子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散效果。cm2000整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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CMSD2000二氧化鈦阻燃劑混合漿料高剪切分散機

cmsd改進型膠體磨分散機濕法粉碎機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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CMO2000IKN德國動物疫苗超高速納米錐體磨

錐體磨cmo 2000 是在cm 2000基礎(chǔ)上的進-步優(yōu)化產(chǎn)品，有著更新的技術(shù)創(chuàng)新。錐形刀具間隙可調(diào)節(jié)至小，來減小顆粒粒徑，從而可獲得更細的懸浮液。錐體磨轉(zhuǎn)子表面含高質(zhì)材料，如金屬碳化物或不同顆粒的陶瓷，具有好的粉碎效果。在強剪切區(qū)域內(nèi)亦可受到保護，防止被磨損或腐蝕。根據(jù)物料粘度情況的不同，可以靈活調(diào)節(jié)間隙，保證處理效果的均一。

更新時間:2025-07-07

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CMD2000IKN石墨烯小試中試生產(chǎn)用小型分散機

cmd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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CMSD2000牛胸腺組織勻漿膠體磨

cmsd改進型膠體磨分散機濕法粉碎機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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CM2000IKN實驗室膠體磨，小體積小型膠體磨，高剪切實驗室研磨機

cm2000在線式膠體磨特別適合于膠體溶液，超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，cm在摩擦狀態(tài)下工作，因此也被成為濕磨。在錐形定子和轉(zhuǎn)子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散效果。cm2000整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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CMO2000IKN魚明膠膠原蛋白錐形膠體磨

錐體磨cmo 2000 是在cm 2000基礎(chǔ)上的進-步優(yōu)化產(chǎn)品，有著更新的技術(shù)創(chuàng)新。錐形刀具間隙可調(diào)節(jié)至小，來減小顆粒粒徑，從而可獲得更細的懸浮液。錐體磨轉(zhuǎn)子表面含高質(zhì)材料，如金屬碳化物或不同顆粒的陶瓷，具有好的粉碎效果。在強剪切區(qū)域內(nèi)亦可受到保護，防止被磨損或腐蝕。根據(jù)物料粘度情況的不同，可以靈活調(diào)節(jié)間隙，保證處理效果的均一。

更新時間:2025-07-07

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CMSD2000IKN納米濕法膠體磨，納米膠體磨，納米超微粉碎機

cmsd改進型膠體磨分散機濕法粉碎機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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CM2000阿膠特飲管線式膠體磨

cm2000在線式膠體磨特別適合于膠體溶液，超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，cm在摩擦狀態(tài)下工作，因此也被成為濕磨。在錐形定子和轉(zhuǎn)子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散效果。cm2000整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求

更新時間:2025-07-07

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CM2000石墨烯導(dǎo)電液納米研磨機

cmd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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CMD2000促肝細胞生長素均質(zhì)膠體磨

cmd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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CM2000核桃乳高速濕法研磨機

cm2000在線式膠體磨特別適合于膠體溶液，超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，cm在摩擦狀態(tài)下工作，因此也被成為濕磨。在錐形定子和轉(zhuǎn)子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散效果。cm2000整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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德國IKN醫(yī)藥膠體磨,醫(yī)藥膠體磨，膠體磨

德國ikn醫(yī)藥膠體磨,醫(yī)藥膠體磨，膠體磨轉(zhuǎn)磨與定磨可根據(jù)物料粘度、產(chǎn)量、顆粒細度進行手工調(diào)節(jié)，其功效為剪切率大、線速度長、無死角、處理大、均質(zhì)細化效果好。更多詳情請致電上海依肯機械設(shè)備有限公司銷售工程師徐工 182-0189-1183，公司有樣機可以免費進行實驗測試。

更新時間:2025-07-07

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CMD2000沉析纖維管線式納米研磨機

cmd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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CMSD2000新能源電池漿料高速高剪切膠體磨

cmsd改進型膠體磨分散機濕法粉碎機線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

更新時間:2025-07-07

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