光學(xué)測(cè)量?jī)x產(chǎn)品及廠家
美國(guó)royec芯片拾取及放置系統(tǒng)die pick & place systems,new !! ap+ 全自動(dòng)芯片分選系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-07-05
美國(guó)royec半自動(dòng)型芯片拾取系統(tǒng)de35-st ,最小200微米芯片拾取,可選配背面，側(cè)面檢測(cè),可選配芯片轉(zhuǎn)向功能.
更新時(shí)間:2025-07-05
美國(guó)rti自動(dòng)特性圖示儀 mt century curve tracer，是一個(gè)性價(jià)比較高的曲線追蹤設(shè)備。最多到96個(gè)channel，提供4種型號(hào)可供客戶選擇，mt century curve tracer 與rti其他大型curve trace擁有一樣的可靠性，功率和軟件。像其他rti機(jī)型一樣，mt century系統(tǒng)的設(shè)計(jì)有與950系列的測(cè)試夾具及其它專用夾具連接的接口。
更新時(shí)間:2025-07-05
德國(guó)klocke nanotech納米級(jí)三維測(cè)量?jī)x3d nanofinger，是一種實(shí)用的納米精度坐標(biāo)和形貌綜合測(cè)量設(shè)備。由臺(tái)架、控制系統(tǒng)、探頭、針尖組成. 可測(cè)量樣品外形尺寸，表面輪廓、粗糙度等，并可與超精密微加工、微組裝系統(tǒng)組合，進(jìn)行在線檢測(cè)、質(zhì)量控制等。
更新時(shí)間:2025-07-05
日本a&d粒子計(jì)數(shù)器（粒度計(jì)）sv-1a,是使用點(diǎn)監(jiān)測(cè)的低成本替代設(shè)備,計(jì)數(shù)值高達(dá)2,000,000個(gè)粒子/ft.
更新時(shí)間:2025-07-05
美國(guó)filmetrics 薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)f20，f30，f40，f50，f60，f3-xxt 系列，臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-07-05
美國(guó) sonix 超聲波掃描顯微鏡:echo-vs, echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,sonix echo vs™ 是專為更高精度要求，更復(fù)雜元器件設(shè)計(jì)的新一代設(shè)備。echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,編程自動(dòng)判別缺陷,高產(chǎn)量,無(wú)需人員重復(fù)設(shè)置.
更新時(shí)間:2025-07-05
德國(guó)bruker傅氏轉(zhuǎn)換紅外光譜儀ftir -利用紅外線光譜經(jīng)傅利葉轉(zhuǎn)換進(jìn)而分析雜質(zhì)濃度的光譜分析儀器。
更新時(shí)間:2025-07-05
德國(guó)bruker ft-nir光譜儀tango,mpa,matrix-i.ft-nir光譜儀已經(jīng)在包括制藥，食品，農(nóng)業(yè)和化學(xué)行業(yè)在內(nèi)的所有行業(yè)的質(zhì)量控制應(yīng)用中得到了很好的應(yīng)用。它為耗時(shí)的濕法化學(xué)方法和色譜技術(shù)提供了一種實(shí)用的替代方法。ft-nir無(wú)破壞性，不需要樣品制備或危險(xiǎn)化學(xué)品，使其定量和定性分析快速可靠。
更新時(shí)間:2025-07-05
德bruker光學(xué)輪廓儀contorugt-表面量測(cè)系統(tǒng)-供生產(chǎn)qc/qa及研發(fā)研用的非接解觸型光學(xué)輪廓儀
更新時(shí)間:2025-07-05
sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀是一種新型的光學(xué)診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ald循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長(zhǎng)速率，厚度，折射率)，在短時(shí)間內(nèi)開(kāi)發(fā)新工藝、實(shí)時(shí)研究ald循環(huán)中的反應(yīng)機(jī)理是sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的主要應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-07-05
美國(guó)ogp光學(xué)式坐標(biāo)測(cè)量?jī)x zip 250 ，5:1 accucentric 電動(dòng)變焦透鏡，在每次放大變倍時(shí)自動(dòng)校準(zhǔn)，可選配接觸式探頭、激光和微型探針。
更新時(shí)間:2025-07-05
jy—pha接觸角測(cè)定儀，用于液體對(duì)固體的浸潤(rùn)性，通過(guò)測(cè)量液體對(duì)固體的接觸角、計(jì)算、測(cè)定液體對(duì)固體的附著力，張力及固體表面能等指標(biāo)。
更新時(shí)間:2025-07-05
100標(biāo)準(zhǔn)型接觸角測(cè)量?jī)x，采用高性能日本原裝進(jìn)口工業(yè)機(jī)芯，工業(yè)級(jí)連續(xù)變倍顯微鏡，確保圖像的真實(shí)性，獲取最佳的成像效果。
更新時(shí)間:2025-07-05
美associated 耐壓測(cè)試儀hypotmax 7710 ，是一款12 kvdc hipot測(cè)試儀，用于為電纜、電線、線束和電氣元件測(cè)試提供高直流輸出電壓。該產(chǎn)品非常易于使用，并為安全有效的測(cè)試提供了各種特性。它有專利smartgfi®操作,它還包括電荷lo®和斜坡嗨®系統(tǒng)。最后，該系統(tǒng)具有遠(yuǎn)程安全聯(lián)鎖和數(shù)控電弧檢測(cè)系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2025-07-05
montana 新型超精細(xì)多功能無(wú)液氦低溫光學(xué)恒溫器完全擺脫了液氦。完全閉循環(huán)的制冷系統(tǒng)只需要極少量的氦氣即可讓系統(tǒng)達(dá)到極限低溫。系統(tǒng)具有超快降溫、超低震動(dòng)和超高的溫度穩(wěn)定性。全自動(dòng)化的控制軟件，簡(jiǎn)化了用戶的操作流程。
更新時(shí)間:2025-07-05
德國(guó)attocube磁共振顯微鏡/低溫強(qiáng)磁場(chǎng)磁共振顯微鏡attocsfm,完美集成了由完全無(wú)磁性材料制備的高數(shù)值孔徑（na）共聚焦顯微鏡與原子力顯微鏡來(lái)滿足odmr實(shí)驗(yàn)的需求。
更新時(shí)間:2025-07-05
sinton少子壽命測(cè)試儀wct-120，suns-voc，硅片少子壽命測(cè)試系統(tǒng)，采用了獨(dú)特的測(cè)量和分析技術(shù)，包括準(zhǔn)穩(wěn)定態(tài)光電導(dǎo)(qsspc)測(cè)量方法？伸`敏地反映單、多晶硅片的重金屬污染及陷阱效應(yīng),表面復(fù)合效應(yīng)等缺陷情況。
更新時(shí)間:2025-07-05
布魯克bruker白光干涉光學(xué)輪廓儀 contour x, 滿足微納米表面測(cè)量需要
更新時(shí)間:2025-07-05
布魯克bruker contourx-200 三維光學(xué)輪廓儀，靈活的臺(tái)式表面形貌測(cè)量設(shè)備
更新時(shí)間:2025-07-05
布魯克 dektakxt 臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）設(shè)計(jì)創(chuàng)新，實(shí)現(xiàn)了更高的重復(fù)性和分辨率，垂直高度重復(fù)性高達(dá) 5å。第十代 dektakxt臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）的技術(shù)突破，實(shí)現(xiàn)了納米尺度的表面輪廓測(cè)量，從而可以廣泛的應(yīng)用于微電子器件，半導(dǎo)體，電池，高亮度發(fā)光二管的研發(fā)以及材料科學(xué)域。
更新時(shí)間:2025-07-05
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41b，可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.1um 的顆粒。
更新時(shí)間:2025-07-05
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-07-05
美az 總輻射度/太陽(yáng)能吸收率(tesa)便攜式反射計(jì) tesa 2000，根據(jù)astm e408測(cè)定熱發(fā)射率和空氣質(zhì)量為零時(shí)的太陽(yáng)吸收率(空間應(yīng)用)。它緊湊，輕巧，堅(jiān)固耐用，符合人體工程學(xué)設(shè)計(jì)，便于在野外或?qū)嶒?yàn)室中使用。
更新時(shí)間:2025-07-05
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kl-28b/28bf( 光散射法）,粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.2μm， ≥0.5μm, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）
更新時(shí)間:2025-07-05
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-16/16f ( 光散射法）, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）, 粒徑范圍（5個(gè)通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm
更新時(shí)間:2025-07-05
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-17b ( 光散射法）,純水用，大粒子數(shù)濃度：100 000 顆/ml （誤差值低于5%），粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.05μm， ≥0.1μm （4通道需工廠定制）
更新時(shí)間:2025-07-05
日本理音rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f，寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-07-05
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-24 ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體？蓽y(cè) 0.1um 空氣顆粒度儀kc-24
更新時(shí)間:2025-07-05
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41a ( 光阻用），可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.15um 的顆粒。粒徑范圍（4個(gè)通道，出廠默認(rèn)）：≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm
更新時(shí)間:2025-07-05
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-18f ( 光散射法）液體光學(xué)顆粒度儀 ks-18f寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.05~0.2um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。 可偵測(cè)到小粒徑 0.05um 的粒子
更新時(shí)間:2025-07-05
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42a&42af ( 光散射法）,可測(cè)試 0.1~0.5um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-07-05
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42b/42bf ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.2~2.0um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-07-05
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42c ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.5~20um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-07-05
日本理音 rion 粒子計(jì)數(shù)器 ks-20f，檢測(cè)粒徑為0.02μm的顆粒，從0.02μm到0.08μm可達(dá)7個(gè)通道
更新時(shí)間:2025-07-05
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-01e ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2025-07-05
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-03b ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2025-07-05
lfa 467 hyperflash 閃射法導(dǎo)熱儀，自由選擇測(cè)試氣氛，優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)置與閃射光源，16位自動(dòng)進(jìn)樣器，高的測(cè)量效率，寬廣的溫度范圍，靈活配備冷卻系統(tǒng)，設(shè)計(jì)獨(dú)特，性能優(yōu)異，配備氙燈光源的，高溫測(cè)試系統(tǒng)，寬廣的溫度范圍，真空密閉爐體，確保氣氛純凈，防止氧化，內(nèi)置微型管式爐，更高的測(cè)量效率，高數(shù)據(jù)采集速率- 用于薄膜與高導(dǎo)熱材料的解決方案
更新時(shí)間:2025-07-05
oai is a world leader in uv liight & energy measurement instrumentation used for reliable accurate calibrated control of the hotolithography processes in the semiconductor
更新時(shí)間:2025-07-05
日本理學(xué)x射線衍射儀 tfxrd-300/200， 適用于near-fab application的無(wú)損方式xrd·mapping tool有多種光學(xué)元件可選的高精度測(cè)角儀，用于氮化鎵（gan)質(zhì)量管理，可對(duì)應(yīng)大規(guī)格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-07-05
日本理學(xué)x射線衍射儀 tfxrd-300/200， 適用于near-fab application的無(wú)損方式xrd·mapping tool有多種光學(xué)元件可選的高精度測(cè)角儀，用于氮化鎵（gan)質(zhì)量管理，可對(duì)應(yīng)大規(guī)格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-07-05
aoi可以置于生產(chǎn)線上的多個(gè)位置，但有三個(gè)位子是主要的：1、錫膏印刷之后。將aoi的檢測(cè)放在錫膏印刷機(jī)之后，這是個(gè)典型的放置位置，因?yàn)楹芏嗳毕菔怯捎阱a膏印刷的不良所造成的，如錫膏量不足可能會(huì)導(dǎo)致元件丟失或開(kāi)路的原因。2、回流焊，將檢測(cè)設(shè)備放置于貼片后
更新時(shí)間:2025-07-05
測(cè)量陶瓷插芯的內(nèi)孔孔徑，外圓直徑，圓度，內(nèi)外圓同心度。陶瓷插芯的圓柱的直線度，平行度
更新時(shí)間:2025-07-05
觀察拉絲模具定徑區(qū)和壓縮區(qū)，出口區(qū)的缺陷及光潔度。本產(chǎn)品改變了傳統(tǒng)用顯微鏡觀察的方式，把要觀察的部位以影像的方式呈現(xiàn)出來(lái)，解決視力疲勞問(wèn)題，方便溝通和顯微鏡使用方法一樣，只是觀察方式的改變。專用模具支架，方便使用。適用于各種類型，各種孔徑的拉絲模具。
更新時(shí)間:2025-07-05
端子分析儀chd-200是針對(duì)線束行業(yè)品質(zhì)檢驗(yàn)而專門(mén)研發(fā)的一款精密檢測(cè)分析設(shè)備，整套系統(tǒng)由端子切割設(shè)備、研磨設(shè)備、腐蝕清洗、斷面圖像采集系統(tǒng)、線束端子圖片測(cè)量分析系統(tǒng)等單元組成，采用人體力學(xué)設(shè)計(jì)，模塊化組合，流水線式工作流程，讓操作更方便、快捷。全套檢測(cè)系統(tǒng)可在5分鐘內(nèi)完成一個(gè)端子的處理分析，極大地提高了端子斷面品質(zhì)檢驗(yàn)的速度。簡(jiǎn)易的操作、高品質(zhì)的圖像采集系統(tǒng)、精確的測(cè)量分析為您的生產(chǎn)保駕護(hù)航
更新時(shí)間:2025-07-05
拉絲模具測(cè)孔儀對(duì)拉絲？讖.孔型進(jìn)行測(cè)量.拉絲模具測(cè)孔儀對(duì)異型孔也可以進(jìn)行測(cè)量.拉絲模具測(cè)孔儀也可以對(duì)孔型及表面光潔度進(jìn)行觀察.拉絲模具測(cè)孔儀操作簡(jiǎn)單.易學(xué).高效.高精度
更新時(shí)間:2025-07-05
不分光紅外co分析儀是我公司針對(duì)公共場(chǎng)所、工作場(chǎng)所的空氣中的有毒有害物質(zhì)進(jìn)行檢查的高精度儀器，儀器采用不分光紅外分析法/非分散紅外法（ndir）測(cè)量空氣中的壹氧化碳、二氧化碳濃等的濃度，具有測(cè)量精度高，使用壽命長(zhǎng)，交叉干擾小等優(yōu)點(diǎn)，是環(huán)境監(jiān)測(cè)域，職業(yè)衛(wèi)生監(jiān)測(cè)域的必備儀器
更新時(shí)間:2025-07-05
gr-3028型紫外煙氣綜合分析儀（以下簡(jiǎn)稱分析儀）以紫外差分吸收光譜技術(shù)為核心的新型產(chǎn)品，主要用于排氣管道中有害氣體成分的測(cè)量，廣泛應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測(cè)以及熱工參數(shù)測(cè)量等部門(mén)。該分析儀性能指標(biāo)均符合國(guó)家環(huán)保局頒布的煙氣測(cè)試儀的有關(guān)規(guī)定。采用紫外差分吸收光譜技術(shù)和化學(xué)計(jì)量學(xué)算法測(cè)量so2/no/no2/o2/co/co2等氣體的濃度，不受煙氣中水蒸氣影響，具有較高
更新時(shí)間:2025-07-05
數(shù)碼管顯示處理器介紹1）點(diǎn)、線、圓、角度、距離、矩形和螺紋等圖形元素的測(cè)量、預(yù)置和構(gòu)造2）座標(biāo)擺正和座標(biāo)平移，方便擺正工件，減少調(diào)整時(shí)間3）三軸的顯示值4）rs232輸出功能（可打。5）多種座標(biāo)顯示方式，極座標(biāo)和直角座標(biāo)、inc座標(biāo)和abs座標(biāo)公制和英制6）對(duì)光柵尺可進(jìn)行線性補(bǔ)償或區(qū)段線性補(bǔ)償7）z軸可接光柵尺或旋轉(zhuǎn)編碼器
更新時(shí)間:2025-07-05
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