光學(xué)測(cè)量?jī)x產(chǎn)品及廠家
影像測(cè)量?jī)x參數(shù)，二次元影像測(cè)量?jī)x的價(jià)格，二次元測(cè)量?jī)x特點(diǎn)主要是彌補(bǔ)了傳統(tǒng)投影儀的不足，采用攝像機(jī)將待測(cè)物體拍攝成圖像，再傳輸?shù)诫娔X，然后用專業(yè)的影像測(cè)量軟件，便能高效檢測(cè)各種復(fù)雜工件的輪廓、表面形狀尺寸、角度及位置。
更新時(shí)間:2025-07-04
線纜檢測(cè)用投影儀，輪廓檢測(cè)投影儀，絕緣護(hù)套檢測(cè)投影儀被測(cè)工件y置于工作臺(tái)上,在透射反射照明下,它由物鏡0成放大實(shí)像y′(倒像)并經(jīng)光鏡m1與m2反射于投影屏p的磨沙面上。
更新時(shí)間:2025-07-04
絕緣護(hù)套測(cè)量投影儀，電纜外被測(cè)量投影儀，300測(cè)量投影儀是一種光、機(jī)、電一體化的精密高效光學(xué)計(jì)量?jī)x器。測(cè)量投影儀被廣泛應(yīng)用于機(jī)械、儀表、鐘表、電子、電纜、橡膠、彈簧五金、建材、輕工等各行各業(yè)以及院校、研究所、計(jì)量檢定部門的計(jì)量室、試驗(yàn)室和生產(chǎn)車間。測(cè)量投影儀高效率地檢測(cè)各種形狀復(fù)雜工件的輪廓尺寸和表面形狀。
更新時(shí)間:2025-07-04
輪廓測(cè)量投影儀批發(fā)，電線電纜廠用投影儀，低價(jià)電纜外被測(cè)量投影儀是一種光、機(jī)、電一體化的精密高效光學(xué)計(jì)量?jī)x器。測(cè)量投影儀被廣泛應(yīng)用于機(jī)械、儀表、鐘表、電子、電纜、橡膠、彈簧五金、建材、輕工等各行各業(yè)以及院校、研究所、計(jì)量檢定部門的計(jì)量室、試驗(yàn)室和生產(chǎn)車間。測(cè)量投影儀高效率地檢測(cè)各種形狀復(fù)雜工件的輪廓尺寸和表面形狀。
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線纜絕緣層測(cè)量投影儀哪家好，輪廓測(cè)量投影儀的價(jià)格，絕緣護(hù)套檢測(cè)投影儀多少錢被測(cè)工件y置于工作臺(tái)上,在透射反射照明下,它由物鏡0成放大實(shí)像y′(倒像)并經(jīng)光鏡m1與m2反射于投影屏p的磨沙面上。
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輪廓測(cè)量投影儀參數(shù)，哪里有測(cè)量線纜絕緣層投影儀，優(yōu)惠的測(cè)量投影儀是一種光、機(jī)、電一體化的精密高效光學(xué)計(jì)量?jī)x器。測(cè)量投影儀被廣泛應(yīng)用于機(jī)械、儀表、鐘表、電子、電纜、橡膠、彈簧五金、建材、輕工等各行各業(yè)以及院校、研究所、計(jì)量檢定部門的計(jì)量室、試驗(yàn)室和生產(chǎn)車間。測(cè)量投影儀高效率地檢測(cè)各種形狀復(fù)雜工件的輪廓尺寸和表面形狀。
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低倍測(cè)量投影儀，線纜光學(xué)投影儀，數(shù)字式電纜測(cè)量投影儀被測(cè)工件y置于工作臺(tái)上,在透射反射照明下,它由物鏡0成放大實(shí)像y′(倒像)并經(jīng)光鏡m1與m2反射于投影屏p的磨沙面上。
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電線電纜測(cè)量投影儀，絕緣護(hù)套測(cè)量?jī)x是一種光、機(jī)、電一體化的精密高效光學(xué)計(jì)量?jī)x器，適用于以二坐標(biāo)測(cè)量為目的的一切應(yīng)用領(lǐng)域,機(jī)械、電子、儀表、塑膠等行業(yè)廣泛使用，符合gb/t2951.1《電纜絕緣和護(hù)套材料通用方法》標(biāo)準(zhǔn)要求。
更新時(shí)間:2025-07-04
數(shù)碼管顯示處理器介紹1）點(diǎn)、線、圓、角度、距離、矩形和螺紋等圖形元素的測(cè)量、預(yù)置和構(gòu)造2）座標(biāo)擺正和座標(biāo)平移，方便擺正工件，減少調(diào)整時(shí)間3）三軸的顯示值4）rs232輸出功能（可打。5）多種座標(biāo)顯示方式，極座標(biāo)和直角座標(biāo)、inc座標(biāo)和abs座標(biāo)公制和英制6）對(duì)光柵尺可進(jìn)行線性補(bǔ)償或區(qū)段線性補(bǔ)償7）z軸可接光柵尺或旋轉(zhuǎn)編碼器
更新時(shí)間:2025-07-04
日本a&d粒子計(jì)數(shù)器（粒度計(jì)）sv-1a,是使用點(diǎn)監(jiān)測(cè)的低成本替代設(shè)備,計(jì)數(shù)值高達(dá)2,000,000個(gè)粒子/ft.
更新時(shí)間:2025-07-04
美國(guó)filmetrics 薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)f20，f30，f40，f50，f60，f3-xxt 系列，臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-07-04
美國(guó) sonix 超聲波掃描顯微鏡:echo-vs, echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,sonix echo vs™ 是專為更高精度要求，更復(fù)雜元器件設(shè)計(jì)的新一代設(shè)備。echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,編程自動(dòng)判別缺陷,高產(chǎn)量,無需人員重復(fù)設(shè)置.
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德國(guó)bruker傅氏轉(zhuǎn)換紅外光譜儀ftir -利用紅外線光譜經(jīng)傅利葉轉(zhuǎn)換進(jìn)而分析雜質(zhì)濃度的光譜分析儀器。
更新時(shí)間:2025-07-04
德國(guó)bruker ft-nir光譜儀tango,mpa,matrix-i.ft-nir光譜儀已經(jīng)在包括制藥，食品，農(nóng)業(yè)和化學(xué)行業(yè)在內(nèi)的所有行業(yè)的質(zhì)量控制應(yīng)用中得到了很好的應(yīng)用。它為耗時(shí)的濕法化學(xué)方法和色譜技術(shù)提供了一種實(shí)用的替代方法。ft-nir無破壞性，不需要樣品制備或危險(xiǎn)化學(xué)品，使其定量和定性分析快速可靠。
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德bruker光學(xué)輪廓儀contorugt-表面量測(cè)系統(tǒng)-供生產(chǎn)qc/qa及研發(fā)研用的非接解觸型光學(xué)輪廓儀
更新時(shí)間:2025-07-04
sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀是一種新型的光學(xué)診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ald循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長(zhǎng)速率，厚度，折射率)，在短時(shí)間內(nèi)開發(fā)新工藝、實(shí)時(shí)研究ald循環(huán)中的反應(yīng)機(jī)理是sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的主要應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-07-04
美國(guó)ogp光學(xué)式坐標(biāo)測(cè)量?jī)x zip 250 ，5:1 accucentric 電動(dòng)變焦透鏡，在每次放大變倍時(shí)自動(dòng)校準(zhǔn)，可選配接觸式探頭、激光和微型探針。
更新時(shí)間:2025-07-04
jy—pha接觸角測(cè)定儀，用于液體對(duì)固體的浸潤(rùn)性，通過測(cè)量液體對(duì)固體的接觸角、計(jì)算、測(cè)定液體對(duì)固體的附著力，張力及固體表面能等指標(biāo)。
更新時(shí)間:2025-07-04
100標(biāo)準(zhǔn)型接觸角測(cè)量?jī)x，采用高性能日本原裝進(jìn)口工業(yè)機(jī)芯，工業(yè)級(jí)連續(xù)變倍顯微鏡，確保圖像的真實(shí)性，獲取最佳的成像效果。
更新時(shí)間:2025-07-04
美associated 耐壓測(cè)試儀hypotmax 7710 ，是一款12 kvdc hipot測(cè)試儀，用于為電纜、電線、線束和電氣元件測(cè)試提供高直流輸出電壓。該產(chǎn)品非常易于使用，并為安全有效的測(cè)試提供了各種特性。它有專利smartgfi®操作,它還包括電荷lo®和斜坡嗨®系統(tǒng)。最后，該系統(tǒng)具有遠(yuǎn)程安全聯(lián)鎖和數(shù)控電弧檢測(cè)系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2025-07-04
montana 新型超精細(xì)多功能無液氦低溫光學(xué)恒溫器完全擺脫了液氦。完全閉循環(huán)的制冷系統(tǒng)只需要極少量的氦氣即可讓系統(tǒng)達(dá)到極限低溫。系統(tǒng)具有超快降溫、超低震動(dòng)和超高的溫度穩(wěn)定性。全自動(dòng)化的控制軟件，簡(jiǎn)化了用戶的操作流程。
更新時(shí)間:2025-07-04
德國(guó)attocube磁共振顯微鏡/低溫強(qiáng)磁場(chǎng)磁共振顯微鏡attocsfm,完美集成了由完全無磁性材料制備的高數(shù)值孔徑（na）共聚焦顯微鏡與原子力顯微鏡來滿足odmr實(shí)驗(yàn)的需求。
更新時(shí)間:2025-07-04
sinton少子壽命測(cè)試儀wct-120，suns-voc，硅片少子壽命測(cè)試系統(tǒng)，采用了獨(dú)特的測(cè)量和分析技術(shù)，包括準(zhǔn)穩(wěn)定態(tài)光電導(dǎo)(qsspc)測(cè)量方法？伸`敏地反映單、多晶硅片的重金屬污染及陷阱效應(yīng),表面復(fù)合效應(yīng)等缺陷情況。
更新時(shí)間:2025-07-04
美az 總輻射度/太陽能吸收率(tesa)便攜式反射計(jì) tesa 2000，根據(jù)astm e408測(cè)定熱發(fā)射率和空氣質(zhì)量為零時(shí)的太陽吸收率(空間應(yīng)用)。它緊湊，輕巧，堅(jiān)固耐用，符合人體工程學(xué)設(shè)計(jì)，便于在野外或?qū)嶒?yàn)室中使用。
更新時(shí)間:2025-07-04
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kl-28b/28bf( 光散射法）,粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.2μm， ≥0.5μm, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）
更新時(shí)間:2025-07-04
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-16/16f ( 光散射法）, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）, 粒徑范圍（5個(gè)通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm
更新時(shí)間:2025-07-04
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-17b ( 光散射法）,純水用，大粒子數(shù)濃度：100 000 顆/ml （誤差值低于5%），粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.05μm， ≥0.1μm （4通道需工廠定制）
更新時(shí)間:2025-07-04
日本理音rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f，寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-07-04
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-24 ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體？蓽y(cè) 0.1um 空氣顆粒度儀kc-24
更新時(shí)間:2025-07-04
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41a ( 光阻用），可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.15um 的顆粒。粒徑范圍（4個(gè)通道，出廠默認(rèn)）：≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm
更新時(shí)間:2025-07-04
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-18f ( 光散射法）液體光學(xué)顆粒度儀 ks-18f寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.05~0.2um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。 可偵測(cè)到小粒徑 0.05um 的粒子
更新時(shí)間:2025-07-04
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42a&42af ( 光散射法）,可測(cè)試 0.1~0.5um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-07-04
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42b/42bf ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.2~2.0um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-07-04
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42c ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.5~20um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-07-04
日本理音 rion 粒子計(jì)數(shù)器 ks-20f，檢測(cè)粒徑為0.02μm的顆粒，從0.02μm到0.08μm可達(dá)7個(gè)通道
更新時(shí)間:2025-07-04
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-01e ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2025-07-04
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-03b ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2025-07-04
fr-mini 是一款緊湊型裝置，專為大學(xué)教育和研究實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)，用于快速、準(zhǔn)確和無損地表征各種不同的涂層。使用 fr-mini，用戶還可以在較寬的光譜范圍內(nèi)輕松進(jìn)行反射率和/或透射率測(cè)量。
更新時(shí)間:2025-07-04
fr-pro 膜厚測(cè)量?jī)x 用于表征1nm-3mm厚度范圍內(nèi)的 涂層的模塊化和可擴(kuò)展平臺(tái)。
更新時(shí)間:2025-07-04
fr-scanner 是一款緊湊的臺(tái)式測(cè)量工具，全自動(dòng)測(cè)繪涂層的厚度，基底適用于晶圓，掩膜版及其它材料。fr-scanner 可以快速和準(zhǔn)確地測(cè)量薄膜特性，比如厚度，折射系數(shù)，均勻性，色度等，真空吸盤可應(yīng)用于任何直徑或其它形狀的樣品。
更新時(shí)間:2025-07-04
布魯克bruker白光干涉光學(xué)輪廓儀 contour x, 滿足微納米表面測(cè)量需要
更新時(shí)間:2025-07-04
布魯克bruker contourx-200 三維光學(xué)輪廓儀，靈活的臺(tái)式表面形貌測(cè)量設(shè)備
更新時(shí)間:2025-07-04
布魯克 dektakxt 臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）設(shè)計(jì)創(chuàng)新，實(shí)現(xiàn)了更高的重復(fù)性和分辨率，垂直高度重復(fù)性高達(dá) 5å。第十代 dektakxt臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）的技術(shù)突破，實(shí)現(xiàn)了納米尺度的表面輪廓測(cè)量，從而可以廣泛的應(yīng)用于微電子器件，半導(dǎo)體，電池，高亮度發(fā)光二管的研發(fā)以及材料科學(xué)域。
更新時(shí)間:2025-07-04
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41b，可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.1um 的顆粒。
更新時(shí)間:2025-07-04
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-07-04
ftpadv 臺(tái)式薄膜探針反射儀臺(tái)式薄膜探針反射儀ftpadv，ftpadv是一種具有成本效益的臺(tái)式反射膜厚儀解決方案，它具有非常快速的厚度測(cè)量。在100毫秒以內(nèi)進(jìn)行測(cè)量，其精度低于0.3nm，膜厚范圍在50 nm -25 μm。為了便于分光反射測(cè)量操作，該儀器包括了范圍廣泛的預(yù)定配方。
更新時(shí)間:2025-07-04
ftpadv expert 綜合薄膜測(cè)量軟件，光譜反射測(cè)量軟件ftpadv expert是專門為測(cè)量和分析r(λ)和t(λ)而設(shè)計(jì)的。用于確定各種材料的薄膜厚度、消光系數(shù)或折射率的光譜數(shù)據(jù)分析，這些參數(shù)都被加載到sentech光譜反射測(cè)量軟件中，使得能夠根據(jù)cauchy色散、drude振蕩給出的參數(shù)描述和擬合材料。
更新時(shí)間:2025-07-04
mdpinline 光伏測(cè)量?jī)x器，一秒內(nèi)完成正片晶片掃描。mdpinline是為高速自動(dòng)掃描硅晶片而設(shè)計(jì)的，它以每片不到一秒的時(shí)間記錄少子壽命的全部形貌。利用微波檢測(cè)光電導(dǎo)率定量測(cè)量少子壽命。憑借其緊湊的設(shè)計(jì)，mdpinline可以靈活地集成在傳送帶上或晶片分選系統(tǒng)中。
更新時(shí)間:2025-07-04
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