無掩模光刻機/直寫光刻機產(chǎn)品及廠家
canon光刻機主要型號及參數(shù)詳解,canon（佳能）的光刻機雖然在市場份額上不如asml，但在特定領域（如ic前道、后道封裝、面板顯示等）仍有一定競爭力。
更新時間:2025-07-02
asml光刻機型號與性能詳解,asml是全 球領 先的光刻機制造商，其產(chǎn)品廣泛應用于半導體制造，尤其是高 端芯片的生產(chǎn)。
更新時間:2025-07-02
尼康（nikon）是光刻機領域的重要廠商之一，尤其在duv（深紫外）光刻機市場中占據(jù)重要地位。涵蓋i-line、krf和arf等技術(shù)節(jié)點，以及與euv（極紫外）
更新時間:2025-07-02
尼康（nikon）是光刻機領域的重要廠商之一，尤其在duv（深紫外）光刻機市場中占據(jù)重要地位，其產(chǎn)品廣泛應用于半導體制造、面板顯示等領域。
更新時間:2025-07-02
mpo 100雙光子聚合直寫光刻機是一種雙光子聚合 （tpp） 多用戶工具，用于微結(jié)構(gòu)的 3d 光刻和 3d 顯微打印，適用于微光學、光子學、微機械學和生物醫(yī)學工程。模塊化 3d 打印平臺 mpo 100 可按需提供高精度 3d 光刻以及 3d 顯微打印的高打印量，并能夠在單個工藝步驟中以高吞吐量生產(chǎn)復雜的功能性微結(jié)構(gòu)。
更新時間:2025-06-13
els-boden σ這是elonix自創(chuàng)業(yè)以來多年來一直致力于開發(fā)的新型號的電子束光刻設備。 采用模塊系統(tǒng)，可以自由組合加速電壓、腔室尺寸、傳輸機構(gòu)和防振臺，為每個應用構(gòu)建佳單元。
更新時間:2025-06-13
els-boden是由elionix開發(fā)的電子束光刻設備，非常適合研究和開發(fā)！支持從高清繪圖到大電流高速繪圖的廣泛應用。
更新時間:2025-06-13
els-hayate是由elionix研發(fā)的超高吞吐量電子束光刻設備，提供業(yè)界大的 5 毫米偏轉(zhuǎn)。，非常適合需要關(guān)注字段間拼接錯誤的應用。
更新時間:2025-06-13
ultra半導體光掩模光刻機是門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設備，包括微控制器、電源管理、led、物聯(lián)網(wǎng) （iot） 和 mems。ultra 是一種經(jīng)濟型光刻機解決方案，具有高吞吐量、精度和結(jié)構(gòu)均勻性以及其精確的對準所需的所有特性和功能。標準配置包括全自動掩模處理、zerodur® 平臺、低失真光學元件和高精度位置控制等功能。
更新時間:2025-06-13
pg 300 di 是一款體積圖案發(fā)生器，為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 vpg 系統(tǒng)組件，能夠以高的精度和準確度進行書寫。大寫入?yún)^(qū)域覆蓋
更新時間:2025-06-13
dwl 2000 gs / dwl 4000 gs 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)灰度光刻進行了優(yōu)化，設計用于集成電路、mems、微光學和微流體器件、傳感器、全息圖以及鈔票的防偽特征的掩模和晶圓的高通量圖案化。
更新時間:2025-06-13
mla 300 無掩模光刻機 提供高吞吐量、簡化的工作流程以及與制造執(zhí)行系統(tǒng) （mes） 的集成。該工具用于生產(chǎn)傳感器和傳感器 ic、mems 和微流體器件。其他應用包括分立電子元件、模擬和數(shù)字 ic、asic、電力電子、oled 顯示器和先進封裝。
更新時間:2025-06-13
無掩模光刻機vpg 300 di是一款體積圖案發(fā)生器，為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 vpg 系統(tǒng)組件，能夠以高的精度和準確度進行書寫。大寫入?yún)^(qū)域覆蓋 300 mm 晶圓。
更新時間:2025-06-13
bio系列是生命科學版的無掩膜紫外光刻機，該設備具有更高的深寬比，能滿足生命科學域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微流控芯片的制造過程中，其高深寬比和高靈活性的特點得以展現(xiàn)，可確保芯片的質(zhì)量和性能。這使得它成為生命科學研究和相關(guān)應用中的重要工具。
更新時間:2025-06-13
speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機，其無掩膜光刻機配備了先進的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一基礎上，擁有了更高的光刻效率。其的性能特點使其特別適合小批量生產(chǎn)的場景。在該場景中，它能夠發(fā)揮出其高效的優(yōu)勢，為生產(chǎn)帶來更高的效率和更好的質(zhì)量。
更新時間:2025-06-13
上海祥樹歐茂機電設備有限公司成立于1999年，經(jīng)過多年的努力與良好的信譽度，公司與國際機電行業(yè)品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個穩(wěn)定而高效的全球化國際供應鏈體系，竭盡全力為客戶提供服務。
更新時間:2025-05-19
上海祥樹歐茂機電設備有限公司成立于1999年，經(jīng)過多年的努力與良好的信譽度，公司與國際機電行業(yè)品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個穩(wěn)定而高效的全球化國際供應鏈體系，竭盡全力為客戶提供服務。
更新時間:2025-05-19
上海祥樹歐茂機電設備有限公司成立于1999年，經(jīng)過多年的努力與良好的信譽度，公司與國際機電行業(yè)品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個穩(wěn)定而高效的全球化國際供應鏈體系，竭盡全力為客戶提供服務。
更新時間:2025-05-19
上海祥樹歐茂機電設備有限公司成立于1999年，經(jīng)過多年的努力與良好的信譽度，公司與國際機電行業(yè)品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個穩(wěn)定而高效的全球化國際供應鏈體系，竭盡全力為客戶提供服務。
更新時間:2025-05-19
托托科技推出的無掩模光刻機，以其革命性的技術(shù)革新，為微電子、集成電路等制造領域帶來了靈活性和高效率。無論是在科學研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造，還是在電子器件、生物醫(yī)藥、光學元件、微機械等眾多領域，我們的無掩模光刻機都能提供解決方案。
更新時間:2025-03-24
本產(chǎn)品用于4~6英寸si類晶片打標。設備全自動上下片，全自動定位？梢允褂脭(shù)字，文字，條形碼在晶片任意部位打標。打標速度120片每小時.
更新時間:2024-08-26
實驗室攪拌機系列e30-h電動數(shù)顯攪拌器（型）e30-h應用領域|上海小型無刷攪拌機*_e30-h適用于生物、理化、化妝品、保健品、食品、試劑等實驗領域。是液體混和攪拌的實驗設備。產(chǎn)品理念設計新穎、制
更新時間:2024-06-09
本產(chǎn)品用于4~6英寸sic(含si）類晶片打標。設備全自動上下片，全自動定位？梢允褂脭(shù)字，文字，條形碼在晶片任意部位打標。打標速度120片每小時.
更新時間:2024-02-01
dali無掩膜納米光刻機是一款采用亞納米精度激光操控技術(shù)為核心的超穩(wěn)定，桌面型，高精度，高速激光直寫設備。其核心技術(shù)已經(jīng)在在亞納米精度要求的儀器設備中經(jīng)過十幾年的應用檢驗。超高精度，和超高穩(wěn)定性是dali無掩膜納米光刻機實現(xiàn)高性能的基礎。
更新時間:2023-08-18
最新產(chǎn)品
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